硫酸和氧化劑溶液：EL2028CSZ硫酸和氧化劑溶液（過氧化氫或過硫酸銨22）是最常用的去除無金屬表面(nonmetallicsurfaces)光刻膠層的去除劑。無金屬表面是二氧化硅、氮化硅或多晶硅。，這種溶液可去除負光刻膠和正光刻膠．，相同的化學溶液和工藝用于在第7章描述的預爐管清洗晶圓中。硝酸有時作為在硫酸清洗池中的添加氧化劑。典型的混合比為10：1。硝酸有一個缺點是會把清洗池變成淡橘黃色而遮蓋住池中碳的積累。所有這些溶液都以氧化機理來溶解光刻膠。有金屬表面的濕法化學擊除從有金屬表面去除光刻膠是一個比較困難的工作，因為金屬會受到侵蝕或氧化。有4種類型的液體化學品用于去除有金屬表面的光刻膠：1．有機去除劑。2．溶劑去除劑。3．溶劑／胺去除劑。4．特殊去除劑。酚有機去除劑：有機去除劑包含磺酸（有機酸）和氯化碳氫溶劑的組合，例如duodexabenzene。配方要求苯酚形成可沖洗的溶液。在20世紀70年代，由于對這些配方中有毒成分的擔心而導致了磺酸、非酚的、非氯化的i馴去除劑的開發。去除光刻膠要求將溶液加熱到900C—120。C的范圍。丁藝中常使用2個或3個加熱的去除池。清洗以兩步進行，第一步是溶劑，然后用水清洗，其后是干燥工序。

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